光刻胶的作用原理和用途

1. 光刻胶的作用原理和用途

2. 光刻胶是什么材料 起什么作用

材料：由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
作用：在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。

光刻胶
在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）。
深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。
以上内容参考：百度百科——光刻胶

3. 光刻胶的应用

光刻胶

4. 光刻胶是什么材料起什么作用

光刻胶是一种具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝光图形的介质。光刻胶的英文名是resist，也翻译成resist、photoresist等。光致抗蚀剂的功能是作为抗蚀刻层保护衬底表面。光致抗蚀剂只是一种图像，因为它在外观上是以胶状液体出现的。
光致抗蚀剂通常以薄膜的形式均匀地涂覆在衬底的表面上。当受到紫外光或电子束照射时，光致抗蚀剂材料本身的特性会发生变化。用显影剂显影后，曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶会残留在基底表面，从而将设计好的微纳结构转移到光刻胶上。后续的刻蚀、沉积等工艺可以进一步将这种图案转移到光刻胶下面的衬底上，最后用光刻胶去除剂去除光刻胶。

5. 光刻胶的介绍

又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。

6. 光学胶和光刻胶的区别？

光学胶和光刻胶的区别：状态不同。光学胶属于永久性主材，光刻胶属于制程用辅材，光学胶原材料呈固态状态，光刻胶原材料呈液态状态。光学胶是用于胶结透明光学元件的特种胶粘剂，要求具有无色透明，光透过率在90%以上，胶结强度良好，可在室温或中温下固化，且有固化收缩小等特点，在配制时通常要加入一些处理剂，以改进其光学性能或降低固化收缩率。【摘要】
光学胶和光刻胶的区别？【提问】
光学胶和光刻胶的区别：状态不同。光学胶属于永久性主材，光刻胶属于制程用辅材，光学胶原材料呈固态状态，光刻胶原材料呈液态状态。光学胶是用于胶结透明光学元件的特种胶粘剂，要求具有无色透明，光透过率在90%以上，胶结强度良好，可在室温或中温下固化，且有固化收缩小等特点，在配制时通常要加入一些处理剂，以改进其光学性能或降低固化收缩率。【回答】

7. 光刻胶的分类

光刻胶作为半导体制造过程中必不可少的材料，主要作用是在光的照射下，其中的感光成分发生化学变化，从而实现将掩膜版上的图形转移到硅片等表面上的目的。光刻胶主要组分有成膜树脂、感光成分、微量添加剂和溶剂，其中成膜树脂用于提供机械性能和抗刻蚀能力；感光组分在光照下发生化学变化，引起溶解速率的改变；微量添加剂包括染料、增粘剂等，用以改善光刻胶性能；溶剂用于溶解各组分，使之均匀混合。【摘要】
光刻胶的分类【提问】
光刻胶作为半导体制造过程中必不可少的材料，主要作用是在光的照射下，其中的感光成分发生化学变化，从而实现将掩膜版上的图形转移到硅片等表面上的目的。光刻胶主要组分有成膜树脂、感光成分、微量添加剂和溶剂，其中成膜树脂用于提供机械性能和抗刻蚀能力；感光组分在光照下发生化学变化，引起溶解速率的改变；微量添加剂包括染料、增粘剂等，用以改善光刻胶性能；溶剂用于溶解各组分，使之均匀混合。【回答】
光刻胶按照感光波长可分为紫外、深紫外、极紫外、电子束、离子束以及X射线类光刻胶，目前常用的光刻胶有紫外、深紫外光刻胶，极紫外光刻胶将在10nm及以下【回答】

8. 光刻胶的分类

原发布者:xuhongzhuo
````4.光刻胶光刻胶主要由树脂（Resin）、感光剂（Sensitizer）、溶剂（Solvent）及添加剂（Additive）等不同的材料按一定比例配制而成。其中树脂是粘合剂（Binder），感光剂是一种光活性（Photoactivity）极强的化合物，它在光刻胶内的含量与树脂相当，两者同时溶解在溶剂中，以液态形式保存，以便于使用。4.1光刻胶的分类⑴负胶1.特点·曝光部分会产生交联（CrossLinking），使其结构加强而不溶于现像液；·而未曝光部分溶于现像液；·经曝光、现像时，会有膨润现像，导致图形转移不良，故负胶一般不用于特征尺寸小于3um的制作中。2.分类（按感光性树脂的化学结构分类）常用的负胶主要有以下两类：·聚肉桂酸酯类光刻胶这类光刻胶的特点，是在感光性树脂分子的侧链上带有肉桂酸基感光性官能团。如聚乙烯醇肉桂酸酯（KPR胶）、聚乙烯氧乙基肉桂酸酯（OSR胶）等。·聚烃类—双叠氮类光刻胶这种光刻胶又叫环化橡胶系光刻胶。它由聚烃类树脂（主要是环化橡胶）、双叠氮型交联剂、增感剂和溶剂配制而成。3.感光机理1肉桂酸酯类光刻胶KPR胶和OSR胶的感光性树脂分子结构如下：在紫外线作用下，它们侧链上的肉桂酰官能团里的炭－炭双键发生二聚反应，引起聚合物分子间的交联，转变为不溶于现像液的物质。KPR胶的光化学交联反应式如下：